申请/专利权人:美光科技公司
申请日:2023-11-23
公开(公告)日:2024-06-14
公开(公告)号:CN118197375A
主分类号:G11C11/4091
分类号:G11C11/4091;H01L27/088;H01L27/092;H01L21/8234;H01L21/8238;G11C7/06
优先权:["20221214 US 63/432,618","20231003 US 18/480,130"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.14#公开
摘要:本公开涉及用于finFET感测放大器的装置及方法。描述用于制造存储器装置的感测放大器SA中的具有各种鳍片宽度的各种装置的系统及方法。所述SA中的所述各种装置对各种参数敏感,所述参数对对应finFET的所述鳍片宽度敏感。制造所述SA中的所述各种装置中的各种鳍片宽度可改进所述存储器装置的性能。例如,将较厚鳍片较大鳍片宽度用于所述SA中的NMOS感测放大器及PMOS感测放大器会减少阈值电压变化,而将较薄鳍片较小鳍片宽度用于所述SA中的控制装置会保持所述控制装置的高性能。
主权项:1.一种装置,其包括:第一组件,其包括第一鳍片场效应晶体管finFET,其中所述第一finFET包括具有第一宽度的第一鳍片;及第二组件,其包括第二finFET,其中所述第二finFET包括具有第二宽度的第二鳍片,其中所述第一宽度大于所述第二宽度,且其中所述第一组件经配置以检测两个信号之间的电压差。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 美光科技公司 用于FINFET感测放大器的装置及方法
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