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申请/专利权人：谷歌有限责任公司
申请日：2023-10-20
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118192161A
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00;G02B5/18
优先权：["20221020 US 63/417,720"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本公开涉及使用灰度光刻和等离子蚀刻制造倾斜光栅母版和工作印模。一种用于制造用于在波导工件中形成倾斜表面光栅的工作印模的方法包括：提供包括衬底的母版工件；以及，在母版工件上执行光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的序列以形成压印复制母版，该压印复制母版在其衬底的工作表面中具有倾斜光栅的图案，该倾斜光栅具有实质上不与衬底的工作表面正交的侧壁。方法还包括：使软印模材料层适形于压印复制母版的工作表面，使得软印模材料层具有与倾斜光栅的图案相对应的倾斜突起的图案；以及，从软印模材料去除压印复制母版，且固化围绕倾斜突起的图案的软印模材料层以形成工作印模。
主权项：1.一种形成用于在波导工件中制造倾斜表面光栅的工作印模的方法，包括：提供包括衬底的母版工件；以及在所述母版工件上执行光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的序列，以形成压印复制母版，所述压印复制母版在所述衬底的工作表面中具有倾斜光栅的图案，所述倾斜光栅具有实质上不与所述衬底的工作表面正交的侧壁；使软印模材料层适形于所述压印复制母版的所述衬底的所述工作表面，使得所述软印模材料层具有与所述倾斜光栅的图案相对应的倾斜突起的图案；以及从所述软印模材料去除所述压印复制母版，且固化至少围绕所述倾斜突起的图案的所述软印模材料层的区域以形成所述工作印模。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 谷歌有限责任公司 使用灰度光刻和等离子蚀刻制造倾斜光栅母版和工作印模
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