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抛光工具、抛光系统和抛光方法 

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申请/专利权人:MEI公司

摘要:本发明涉及一种用于在表面加工过程中抛光眼镜片L的抛光工具100,该抛光工具包括用于被支撑为能围绕旋转轴线RA1旋转的工具主体110。工具主体110包括抛光表面130,该抛光表面在工具主体110的第一轴向末端101处向外暴露。其中,抛光表面130相对于旋转轴线RA1轴向地凸形或凹形鼓起,用于抛光眼镜片L的光学表面L1,L2。工具主体110进一步包括通道140,该通道从入口142轴向延伸穿过工具主体110到达出口141以向抛光表面130供应抛光剂。入口142设置在相对于旋转轴线RA1与第一轴向端101相对的第二轴向端102处。出口141设置在第一轴向端101处。抛光表面130包括至少一个凹槽150,该凹槽远离出口141径向延伸到抛光表面130的周边,以将抛光剂分布在抛光表面130上。本发明还涉及一种用于用所述抛光工具100在表面加工过程中抛光眼镜片L的系统200和方法。

主权项:1.一种用于在表面加工过程中抛光眼镜片L的抛光工具100,该抛光工具包括用于被支撑为能围绕旋转轴线RA1旋转的工具主体110,其中,所述工具主体110包括抛光表面130,该抛光表面在所述工具主体110的第一轴向端101处向外暴露,所述抛光表面130相对于所述旋转轴线RA1轴向地凸形或凹形鼓起,用于抛光所述眼镜片L的光学表面L1,L2,其中,所述工具主体110包括通道140,该通道从入口142轴向延伸穿过所述工具主体110到达出口141以向所述抛光表面130供应抛光剂,该入口设置在相对于所述旋转轴线RA1与所述第一轴向端101相对的第二轴向端102处,该出口设置在所述第一轴向端101处,并且其中,所述抛光表面130包括至少一个凹槽150,该凹槽远离所述出口141径向延伸至所述抛光表面130的周边以将抛光剂分布在所述抛光表面130上。

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权利要求:

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