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申请/专利权人：元平台技术有限公司
申请日：2022-11-14
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118235071A
主分类号：G02B5/30
分类号：G02B5/30;G02B5/32;G02B27/01;G02F1/1333;G03F7/20
优先权：["20211114 US 63/279,173","20220920 US 17/948,233"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：一种方法包括提供具有预定强度分布的辐射。该方法还包括提供包括光敏材料和吸收添加剂的混合物的光敏介质层。该吸收添加剂在光敏介质层的膜平面内的方向或厚度方向中的至少一者上具有预定非均匀分布。吸收添加剂的预定非均匀分布被配置为产生对辐射的预定非均匀吸收。该方法还包括将光敏介质层曝光于辐射以形成聚合物膜。该光学膜包括在聚合物膜的膜平面内的方向或厚度方向中的至少一者上的至少一个预定双折射率变化。
主权项：1.一种方法，所述方法包括：提供具有预定强度分布的辐射；提供包括光敏材料和吸收添加剂的混合物的光敏介质层，所述吸收添加剂在所述光敏介质层的膜平面内的方向或厚度方向中的至少一者上具有预定非均匀分布，其中，所述吸收添加剂的所述预定非均匀分布被配置为产生对所述辐射的预定非均匀吸收；以及将所述光敏介质层曝光于所述辐射以形成聚合物膜，所述聚合物膜包括在所述聚合物膜的膜平面内的方向或厚度方向中的至少一者上的至少一个预定双折射率变化。
全文数据：
权利要求：
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