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申请/专利权人：恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
申请日：2023-12-13
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118225160A
主分类号：G01D21/02
分类号：G01D21/02;G01D11/30;G01F15/18;G01N21/01
优先权：["20221220 DE 102022134140.2"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：描述了用于测量介质的被测量的测量装置100、200，其具有测量单元1、用于保持测量单元的测量单元容座3、3’和用于测量被测量的测量设备5、5’，其中测量单元包括测量室7和参考室9，其中介质能够流过测量室或者测量室能够填充有介质，参考室与测量室分开并且能够填充参考介质或填充有参考介质。测量室和参考室相对于彼此布置，使得测量单元能够在测量位置插入到测量单元容座中，在测量位置中，对于介质的被测量的测量能够通过所述测量设备来执行，并且测量单元能够在参考位置插入到测量单元容座中，在参考位置中，对于位于参考室中的参考介质的至少一个参考变量的参考测量能够通过所述测量设备来执行。
主权项：1.用于测量介质的至少一个被测量的测量装置100、200，所述测量装置100、200具有测量单元1、用于保持所述测量单元1的测量单元容座3、3’和用于测量所述被测量的测量设备5、5’，其中：所述测量单元1包括测量室7和参考室9，其中所述介质能够流过所述测量室7或者所述测量室7能够填充有所述介质，所述参考室9与所述测量室7分开并且能够填充参考介质或填充有参考介质，并且所述测量室7和所述参考室9相对于彼此布置，使得所述测量单元1能够在测量位置插入到所述测量单元容座3、3’中，在所述测量位置中，对于位于所述测量室7中或流过所述测量室7的所述介质的被测量的测量能够通过所述测量设备5、5’来执行，并且所述测量单元1能够在参考位置插入到所述测量单元容座3、3’中，在所述参考位置中，对于位于所述参考室9中的所述参考介质的至少一个参考变量的参考测量能够通过所述测量设备5、5’来执行。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司 用于测量介质的至少一个被测量的测量装置
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