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申请/专利权人：株式会社德山
申请日：2022-11-14
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118234736A
主分类号：C07K1/06
分类号：C07K1/06;C07C43/23;C07K1/02
优先权：["20211227 JP 2021-212933","20220323 JP 2022-046249","20220715 JP 2022-113639"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明要解决的问题之一是提供一种保护基团的去除方法、包括保护基团去除工序的肽的制造方法、以及保护基团的去除剂，该保护基团的去除方法抑制双重攻击体或二酮哌嗪的生成，易于捕获具有芴骨架的保护基团在脱保护后可能生成的副产物即具有富烯骨架的化合物，并且能够容易地分离与该副产物形成的捕获体。本发明的一个方面涉及的肽制造方法包括：在有机溶剂中，使N末端被具有芴骨架的保护基团保护的含氨基化合物与由下式Z1表示的捕获剂接触，具有来自所述保护基团的富烯骨架的副产物与所述捕获剂键合而获得捕获体的工序；以及从所述有机溶剂中分离出获得的所述捕获体的工序；
主权项：1.一种肽制造方法，包括：在有机溶剂中，使N末端被具有芴骨架的保护基团保护的含氨基化合物与下式Z1表示的捕获剂接触，具有来自所述保护基团的富烯骨架的副产物与所述捕获剂键合而获得捕获体的工序；以及从所述有机溶剂中分离出获得的所述捕获体的工序； 在所述式Z1中，N是氮原子，H是氢原子，X是-CH2-、-O-、-S-或-SO2-表示的二价基团，n1个R1a、n1个R1b、n2个R2a、n2个R2b、n3个R3a及n3个R3b各自独立地为H、-OH、-ORR为烷基、-SH、-SRR与所述-OR同义、-SO2H或-SO2RR与所述-OR同义表示的一价基团，R2a或R2b与R3a或R3b可相互键合，也可与它们所键合的碳原子一起形成环，n1、n2及n3各自独立地为1或2，m是0或1的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社德山 肽制造方法、保护基团的去除方法、去除剂以及苄基化合物
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