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【发明授权】一种异质结红外光电传感器及其制备方法_山东师范大学_202110779666.1 

申请/专利权人:山东师范大学

申请日:2021-07-09

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN113675292B

主分类号:H01L31/109

分类号:H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/0224;H01L31/18

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2021.12.07#实质审查的生效;2021.11.19#公开

摘要:本公开提供了一种异质结红外光电传感器及其制备方法,采用基于CuSnSeGeIn‑Ga的异质结的光电传感器;将SnSeGe的异质结作为光吸收活性层,在SnSeGe的异质结的界面处形成电场;将Cu的微栅格结构作为顶电极,与SnSe的晶体薄膜形成欧姆接触;将In‑Ga合金或In的晶体薄膜作为底电极,与Ge的晶体基片形成欧姆接触。在红外光的照射下实现红外光学信号到电学信号的转换,实现对红外光的快速识别,同时,能够感知微弱的光信号,解决目前红外传感器件普遍存在的较小光电流和较大暗电流的难题,进而提高了红外传感器识别的灵敏度和探测度。

主权项:1.一种异质结红外光电传感器,其特征在于,采用基于CuSnSeGeIn-Ga的异质结的光电传感器;将SnSeGe的异质结作为光吸收活性层,在SnSeGe的异质结的界面处形成电场;将Cu的微栅格结构作为顶电极,与SnSe的晶体薄膜形成欧姆接触;将In-Ga合金的晶体薄膜作为底电极,与Ge的晶体基片形成欧姆接触;具体的,所述SnSe的晶体薄膜厚度设置为50-90nm,电阻率设置为2.20×103Ω·cm,电导类型设置为P型;所述Ge的晶体基片厚度设置为100-200μm,电阻率设置为1.0-5.0Ω·cm,电导类型设置为N型;所述顶电极的厚度设置为60-100nm,结构设置为鱼骨状结构,线宽设置为100μm,线长设置为4.8mm,间隔设置为500μm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 山东师范大学 一种异质结红外光电传感器及其制备方法

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