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申请/专利权人：武汉是维光电科技有限公司
申请日：2023-11-16
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221198021U
主分类号：F27B14/04
分类号：F27B14/04;F27B14/10;F27B14/14;F27B14/20;F27B14/08
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本实用新型公开了一种用于材料器件真空热处理及掺杂改性的装置，包括：装置主体，内部设置有用于放置真空热处理材料或掺杂改性材料的坩埚主体，所述装置主体内部设置有两组加热结构用于加热坩埚主体两端，实现恒温或高低温温差；真空封管机，设置在装置主体上用于所述坩埚主体内部真空化处理和所述坩埚主体一端密封；定位结构，设置在装置主体内，用于坩埚主体在装置主体内定位放置。本实用新型能够一体化完成坩埚主体的内部真空密封处理，且在坩埚主体两端进行升温加温操作时，既能够利用坩埚主体两端升温至同一温度对坩埚主体内部材料进行真空热处理操作，又能够利用坩埚主体两端升温至不同温度对坩埚主体内材料进行掺杂改性操作。
主权项：1.一种用于真空热处理及掺杂改性的装置，其特征在于，包括：装置主体3，内部设置有用于放置真空热处理材料或掺杂改性材料的坩埚主体2，所述装置主体3内部设置有两组加热结构36用于加热坩埚主体2两端；真空封管机1，设置在装置主体3上用于所述坩埚主体2内部真空化处理和所述坩埚主体2一端密封；定位结构4，设置在装置主体3内，用于坩埚主体2在装置主体3内定位放置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉是维光电科技有限公司 一种用于真空热处理及掺杂改性的装置
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