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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2022-05-09
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118251745A
主分类号：H01J37/073
分类号：H01J37/073
优先权：["20210608 EP 21178234.7","20210707 EP 21184290.1","20211224 EP 21217745.5"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本公开涉及一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱，其中每个带电粒子光学柱包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束，该带电粒子源被包括在源阵列中；物镜，该物镜包括静电电极，该静电电极被配置为朝向带电粒子射束引导样品；以及检测器，该检测器与物镜阵列相关联，该检测器被配置为检测从样品发射的带电粒子信号。物镜是带电粒子光学柱的射束最下游元件，该射束最下游元件被配置为影响朝向样品引导的带电粒子射束。
主权项：1.一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束，其中所述带电粒子射束装置包括：多个带电粒子光学柱，被布置在带电粒子光学柱阵列中，所述多个带电粒子光学柱被配置为朝向所述样品投射相应带电粒子射束，其中每个带电粒子光学柱包括：多个带电粒子发射器，被配置为朝向所述样品发射所述带电粒子射束，所述带电粒子发射器被包括在源阵列中；以及物镜，被配置为朝向所述样品引导所述带电粒子射束，所述物镜是静电物镜，所述物镜被包括在物镜阵列中，其中所述带电粒子发射器被配置为能够选择的，使得所述带电粒子发射器的子集能够被选择为朝向所述样品发射所述带电粒子射束。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子装置和方法
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