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基板处理装置以及物品制造方法 

申请/专利权人:佳能株式会社

申请日:2023-12-19

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118237242A

主分类号:B05D3/04

分类号:B05D3/04;H01L21/67;H10K71/00;H10K50/10

优先权:["20221223 JP 2022-207119","20221223 JP 2022-207120","20230515 JP 2023-080032","20231017 JP 2023-178710"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明提供基板处理装置以及物品制造方法,减少配置在基板上的溶液的干燥速度的不均。基板处理装置具备:气密容器;对上述气密容器的内部进行减压的减压机构;配置在上述气密容器的内部并能保持基板的基板保持部;以及在上述气密容器的内部配置在与上述基板保持部所保持的上述基板的侧面相向的位置的壁构件。上述壁构件具有与上述基板的侧面相向的那侧的壁面。上述壁构件在上述壁面的至少一部分具有第1防液构件。

主权项:1.一种基板处理装置,其特征在于,上述基板处理装置具备:气密容器;减压机构,该减压机构对上述气密容器的内部进行减压;基板保持部,该基板保持部配置在上述气密容器的内部,并能保持基板;以及壁构件,该壁构件在上述气密容器的内部配置在与上述基板保持部所保持的上述基板的侧面相向的位置,上述壁构件具有与上述基板的侧面相向的那侧的壁面,上述壁构件在上述壁面的至少一部分具有第1防液构件。

全文数据:

权利要求:

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