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一种原子点缺陷结构的制备方法、一种富勒烯纳米团簇的制备方法 

申请/专利权人:陕西师范大学

申请日:2024-03-19

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118241153A

主分类号:C23C14/02

分类号:C23C14/02;C23F4/00;C23C14/24;C23C14/06;C22F1/14;C23F17/00;B82Y30/00;B82Y40/00;C01B32/154

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明属于碳基纳米团簇的精准构筑技术领域,具体涉及一种原子点缺陷结构的制备方法、一种富勒烯纳米团簇的制备方法。本发明采用离子刻蚀方法,利用离子束轰击Au111表面进行微刻蚀,在所述Au111表面得到原子点缺陷结构;将表面具有原子点缺陷结构的Au111进行退火处理,在所述Au111表面得到规则形状原子点缺陷结构;在表面具有规则形状原子点缺陷结构的Au111的表面,利用分子蒸发源对富勒烯分子进行蒸镀,在所述规则形状原子点缺陷结构的位置上得到所述富勒烯纳米团簇。本发明提供的基于缺陷工程构筑零维富勒烯纳米团簇的方法操作方法简单,成功率高,能有效提高富勒烯纳米团簇的产率,且能够实现富勒烯分子器件的精准构筑,进而促进纳米团簇在催化、生物医学、成像以及传感等方面的应用。

主权项:1.一种原子点缺陷结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:采用离子刻蚀方法,利用离子束轰击Au111表面进行微刻蚀,在所述Au111表面得到原子点缺陷结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 陕西师范大学 一种原子点缺陷结构的制备方法、一种富勒烯纳米团簇的制备方法

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