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一种帽子扩容结构的样板及样板的制作方法 

申请/专利权人:江苏卡思迪莱服饰有限公司

申请日:2021-06-23

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN113273754B

主分类号:A42C1/00

分类号:A42C1/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2021.09.07#实质审查的生效;2021.08.20#公开

摘要:本发明公开了一种帽子扩容结构的样板及样板的制作方法,涉及帽子扩容结构的样板技术领域,具体为一种帽子扩容结构的样板及样板的制作方法,包括帽墙区域样板、帽中区域样板和活动量贴布,所述帽墙区域样板包括帽墙切割线、帽墙折边线、帽墙上部区域、帽墙下部区域、沿边、凹边、缺口和帽墙拼接侧边,所述帽墙区域样板内开设有帽墙切割线,以及距离帽墙切割线3cm且平行设置的帽墙折边线,并将帽墙区域样板分割出帽墙上部区域和帽墙下部区域。本发明中,该帽子扩容结构的样板制作预先设计分割线,用于将样板分割出合适的不同区域样板,以及将帽墙区域样板、帽中区域样板、扩展样片和活动量贴布缝制,并配合拉链可构建出帽子扩容结构。

主权项:1.一种帽子扩容结构的样板,包括帽墙区域样板1、帽中区域样板2和活动量贴布5,其特征在于:所述帽墙区域样板1包括帽墙切割线101、帽墙折边线102、帽墙上部区域103、帽墙下部区域104、沿边105、凹边106、缺口107和帽墙拼接侧边108,所述帽墙区域样板1内开设有帽墙切割线101,以及距离帽墙切割线1013cm且平行设置的帽墙折边线102,并将帽墙区域样板1分割出帽墙上部区域103和帽墙下部区域104,所述帽中区域样板2包括帽中切割线201、帽中上部区域202、帽中下部区域203、帽中拼接侧边204、偏移线205和裁剪区206,所述帽中区域样板2内开设有两条帽中切割线201,两条帽中切割线201之间的距离3cm并相互平行设置,并将帽中区域样板2分割出帽中上部区域202和帽中下部区域203;所述帽墙上部区域103上设有与帽墙区域样板1一体式设置的沿边105,所述帽墙上部区域103上还设有帽墙省中线109;所述帽墙下部区域104上设有与帽墙区域样板1一体式设置的凹边106和缺口107,以及与缺口107位于同一侧的帽墙拼接侧边108;所述帽墙区域样板1为帽墙ABCD,帽墙切割线101和帽墙折边线102对应为分割线JK、平行线J’K’,帽墙上部区域103为帽墙上部JKCH,帽墙省中线109为PQ省中线,帽墙下部区域104为帽墙下部ABK’J’D,帽墙下部区域104和帽中下部区域203拼接形成样片AFN’J’D,扩展样片4为样片J’INJ,帽中区域样板2为12帽中EFGH,两条帽中切割线201分别为分割线MN、平行线M’N’,帽中上部区域202为12帽中上部MNGH,帽中下部区域203为12帽中下部EFN’M’,裁剪区206为12帽中MNOGH。

全文数据:

权利要求:

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