申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
申请日:2019-07-11
公开(公告)日:2024-06-25
公开(公告)号:CN110718461B
主分类号:H01L21/318
分类号:H01L21/318;C23C16/34;C23C16/455
优先权:["20180713 JP 2018-133602"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.25#授权;2021.01.05#实质审查的生效;2020.01.21#公开
摘要:[课题]本公开提供能进行膜质的控制的成膜方法。[解决方案]具备如下工序:妨碍吸附区域的工序,使规定量的妨碍吸附自由基吸附在形成于基板上的吸附位点上,离散地形成妨碍吸附区域;使原料气体吸附的工序,使原料气体吸附在前述吸附位点上的未形成前述妨碍吸附区域的区域;和,使反应产物沉积的工序,使吸附于前述吸附位点上的前述原料气体与由等离子体活化了的反应气体反应,使反应产物沉积。
主权项:1.一种成膜方法,其具备如下工序:形成妨碍吸附区域的工序,使规定量的妨碍吸附自由基吸附在形成于基板上的吸附位点上,离散地形成妨碍吸附区域;使原料气体吸附的工序,使原料气体吸附在所述吸附位点上的未形成所述妨碍吸附区域的区域;和,使反应产物沉积的工序,使吸附于所述吸附位点上的所述原料气体与由等离子体活化了的反应气体反应,使反应产物沉积。
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权利要求:
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