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申请/专利权人：苏州新维度微纳科技有限公司
申请日：2024-04-28
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118092075B
主分类号：G03F7/16
分类号：G03F7/16;G03F7/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2024.06.14#实质审查的生效;2024.05.28#公开
摘要：本发明公开了一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法，采用静电喷涂的方式，通过与样品结构对应的图案化电极引导带静电的压印胶雾化微粒沉积，实现与样品结构对应的图案化涂胶，解决纳米压印过程中残胶不均匀的问题。
主权项：1.一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，其特征在于，包括：提供与样品结构对应的图案化电极，所述样品结构为采用表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板压印而成；提供衬底，将所述衬底放置于所述图案化电极表面；给所述图案化电极通电以形成电场力，向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒，所述压印胶雾化微粒在所述电场力的作用下在所述衬底表面形成图案化堆积胶层，所述图案化堆积胶层与所述图案化电极对应。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州新维度微纳科技有限公司 纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法
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