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申请/专利权人：深圳市雕拓科技有限公司
申请日：2023-09-25
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN221225315U
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权
摘要：本实用新型涉及双面纳米压印技术领域，公开了一种双面纳米压印装置，包括依序设置的模材放料单元、第一喷胶单元、基材铺设单元、第二喷胶单元、纳米压印单元、基材收料单元、模材收料单元；基材铺设单元包括基材铺设辊组和第一气浮平台；第一纳米压印胶层和第二纳米压印胶层分别受基材铺设单元及纳米压印单元作用，在基材的正反两面形成微结构图案。以此结构设计的双面压印装置，能够通过多个单元的设置，高效连续的自动实现基材双面纳米压印，继而有效提升了基材的双面压印效率，降低了基材双面压印成本。
主权项：1.一种双面纳米压印装置，其特征在于：包括依序设置的模材放料单元、第一喷胶单元、基材铺设单元、第二喷胶单元、纳米压印单元、基材收料单元、模材收料单元；所述模材放料单元包括用于将模材张紧并展平的放料辊组，以及向所述模材的微结构侧喷涂脱模剂的脱模剂喷涂装置；所述基材铺设单元包括用于向所述模材的微结构侧铺设基材的基材铺设辊组，以及设置于所述模材下方与所述基材铺设辊组相配合的第一气浮平台；所述模材与所述基材之间通过所述第一喷胶单元喷涂有第一纳米压印胶层；所述基材远离所述第一纳米压印胶层的一侧通过所述第二喷胶单元喷涂有第二纳米压印胶层；所述第一纳米压印胶层和所述第二纳米压印胶层分别受所述基材铺设单元及所述纳米压印单元作用，在所述基材的正反两面形成微结构图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市雕拓科技有限公司 一种双面纳米压印装置
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