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调控有机无机杂化金属卤化物手性光学性质的方法 

申请/专利权人:武汉大学

申请日:2024-03-21

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118255527A

主分类号:C03C17/00

分类号:C03C17/00;G02B1/04;G02B5/30

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本申请公开了调控有机无机杂化金属卤化物手性光学性质的方法。本申请方法,以改变R‑NEAPbI3薄膜中PbI2相含量的方式调控该薄膜的应变水平,以提高薄膜的手性光学性质的调节水平,CD和gCD实验上最高达到5350mdeg和0.20。

主权项:1.一种调控有机无机杂化金属卤化物手性光学性质的方法,其特征在于,以改变R-NEAPbI3薄膜中PbI2相含量的方式调控该薄膜的应变水平,以实现薄膜的手性光学性质的可控调节。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉大学 调控有机无机杂化金属卤化物手性光学性质的方法

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