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申请/专利权人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请日：2024-04-10
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118256888A
主分类号：C23C14/54
分类号：C23C14/54;C23C14/22
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开了真空镀膜机及调试方法，其中真空镀膜机包括：镀膜室、等离子体发生组件、至少两组光检测探头、光谱仪和控制器，镀膜室设有待镀膜位和沿第一方向的镀膜输送线，镀膜输送线经过待镀膜位，以输送基片经过待镀膜位，并镀膜至基片的表面；等离子体发生组件连通于镀膜室，设有沿第二方向朝向于待镀膜位的等离子体流道，等离子体流道于待镀膜位形成沿第三方向的镀膜区；沿第三方向间隔分布的至少两组光检测探头，光检测探头用于检测等离子体流道内的等离子体发出的混合辉光；光谱仪光连接于光检测探头，用于根据混合辉光获得光谱数据；控制器电连接于光谱仪，用于接收并处理光谱数据，并得到等离子体组成比例。
主权项：1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：镀膜室，设有待镀膜位和沿第一方向的镀膜输送线，所述镀膜输送线经过所述待镀膜位，以输送基片经过所述待镀膜位，并镀膜至基片的表面；等离子体发生组件，连通于所述镀膜室，设有沿第二方向朝向于所述待镀膜位的等离子体流道，所述等离子体流道于所述待镀膜位形成沿第三方向的镀膜区，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向互相相交；沿所述第三方向间隔分布的至少两组光检测探头，不同的所述光检测探头朝向于所述等离子体流道沿所述第三方向的不同位置，所述光检测探头用于检测所述等离子体流道内的等离子体发出的混合辉光；光谱仪，光连接于所述光检测探头，用于根据所述混合辉光获得光谱数据；控制器，电连接于所述光谱仪，用于接收并处理所述光谱仪发出的光谱数据，以得到所述等离子体流道沿所述第三方向的不同位置的等离子体组成比例。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 真空镀膜机及调试方法
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