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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2022-10-11
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118266055A
主分类号：H01J37/02
分类号：H01J37/02;H01J37/28
优先权：["20211111 EP 21207845.5","20220311 EP 22161715.2"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明提供了一种用于向样品投射带电粒子束的带电粒子评估系统。该系统包括：被配置为保持样品的样品保持器；带电粒子光学系统，其被配置为将来自带电粒子源的带电粒子束向下游朝样品投射并且包括清洁目标；以及清洁装置。清洁装置被配置为向清洁目标供应入射在清洁目标上的清洁流中的清洁介质，使得清洁流从清洁目标的下游接近清洁目标，并且在清洁目标处或附近激发清洁介质，使得清洁介质清洁清洁目标的表面的至少一部分。
主权项：1.一种用于向样品投射带电粒子束的带电粒子评估系统，所述系统包括：样品保持器，被配置为保持样品；带电粒子光学系统，被配置为将来自带电粒子源的带电粒子束向下游朝所述样品投射并且包括清洁目标；清洁装置，被配置为：向所述清洁目标供应入射在所述清洁目标上的清洁流中的清洁介质，使得所述清洁流从所述清洁目标的下游接近所述清洁目标，并且在所述清洁目标处或附近激发所述清洁介质，使得所述清洁介质清洁所述清洁目标的表面的至少一部分。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子评估系统和方法
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皖公网安备 34010402703815号