首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

分子筛工艺条件的生成方法和系统 

申请/专利权人:华东理工大学

申请日:2021-05-21

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN113517034B

主分类号:G16C20/20

分类号:G16C20/20;G06N3/126

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2021.11.05#实质审查的生效;2021.10.19#公开

摘要:本发明提供了一种分子筛工艺条件的生成方法和系统。方法包括如下的步骤:S1:配置合成分子筛的工艺条件的多个初始参数以及所述分子筛的预期表征,并配置算法参数;S2:初始化种群以生成父代种群,并计算所述父代种群中每个个体的适应值;S3:生成变异种群和子代种群;S4:判断当前迭代次数是否达到最大附迭代次数;S5:计算所述子代种群中每个个体的适应值,并在所述父代种群和所述子代种群中选择新父代种群;以及S6:判断当前迭代次数是否达到最大主迭代次数直至输出所述最优工艺条件。本发明的一种分子筛工艺条件的生成方法和系统可以方便高效地获得符合预期的分子筛工艺条件。

主权项:1.一种分子筛工艺条件的生成方法,其特征在于,包括如下的步骤:S1:配置合成分子筛的工艺条件的多个初始参数以及所述分子筛的预期表征,并配置算法参数,其中,所述算法参数包括最大主迭代次数T、种群大小N、变异策略M、变异因子F、交叉策略C和交叉因子Cr;S2:初始化种群以生成父代种群,并计算所述父代种群中每个个体的适应值,其中所述父代种群中每个个体的适应值体现为差值Error: 其中,output为所述工艺条件到所述X射线衍射图谱的映射模型的输出,setvalue为所述X射线衍射图谱中的峰位置的数值,i为特征维度,以及num为所述峰位置的总数;S3:根据至少两个变异策略和相应的变异因子对所述父代种群中每个个体进行变异,以生成变异种群,并根据交叉策略和相应的交叉因子对所述变异种群和所述父代种群进行交叉,以生成子代种群,其中所述变异策略M的个数为3,分别为第一变异策略M1、第二变异策略M2和第三变异策略M3,其中,所述第一变异策略M1为根据如下的方式计算得到变异个体v:v=x1+F*x2-x3,所述第二变异策略M2为根据如下的方式计算得到变异个体v:v=x1+F*x4-x5+F*x6-x7,所述第三变异策略M3为根据如下的方式计算得到变异个体v:v=x1+F*xbest-x1+F*x8-x9,其中,x1为当前变异的个体,x2~x9为所述父代种群中随机选择的个体,xbest为所述步骤S2中所述父代种群中适应值最小的个体;S4:判断当前迭代次数是否达到最大附迭代次数,若判断结果为是则执行步骤S5,否则重新执行步骤S3~S4;S5:计算所述子代种群中每个个体的适应值,并在所述父代种群和所述子代种群中选择新父代种群;以及S6:判断当前迭代次数是否达到最大主迭代次数,若判断结果为是,则输出符合所述预期表征的最优工艺条件,否则,重新执行步骤S3~S6直至输出所述最优工艺条件。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华东理工大学 分子筛工艺条件的生成方法和系统

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。