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表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用 

申请/专利权人:中国矿业大学

申请日:2024-04-26

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118083956B

主分类号:C01B32/10

分类号:C01B32/10;H01M4/583;H01M4/587;H01M4/62;H01M4/36;H01M6/14

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2024.06.14#实质审查的生效;2024.05.28#公开

摘要:本发明属于氟化碳材料技术领域,公开了表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用。所述制备方法为:于惰性气氛中,将氟化碳和氮源混合后进行研磨处理,获得混合物;于惰性气氛中,将所述混合物于200~500℃下进行热处理,即获得表面具有高导电结构缺陷的氟化碳。本发明通过将氟化碳和氮源研磨后进行热处理,使氮源在热处理过程中分解产生气体,成功制备出表面高导电结构缺陷的氟化碳,降低了表面C‑F共价键和C‑F2\C‑F3非活性基团,形成了高导电石墨畴界面,引入适当的缺陷和氮掺杂,显著提升氟化碳的离子电子导电性,降低锂氟化碳一次电池的初始电压滞后性,提高放电电压平台。

主权项:1.一种表面具有高导电结构缺陷的氟化碳的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:于惰性气氛中,将氟化碳和氮源混合后进行研磨处理,获得混合物;其中,所述氮源为尿素、碳酸氢铵、硫脲、过硫酸铵、硫酸铵、氯化铵和三聚氰铵中的一种或多种;于惰性气氛中,将所述混合物于200~500℃下进行热处理,即获得表面具有高导电结构缺陷的氟化碳。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国矿业大学 表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用

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