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硅基液晶器件的制备方法和硅基液晶器件、显示装置 

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申请/专利权人:深圳晶微峰光电科技有限公司

摘要:本申请涉及一种硅基液晶器件的制备方法和硅基液晶器件、显示装置,包括:提供底板;于所述底板表面形成多个像素电极,相邻的两个所述像素电极之间具有间隙;于所述间隙和各所述像素电极的表面形成平坦化的第一保护层,所述第一保护层填满所述间隙;于所述第一保护层表面形成第二保护层。通过先在像素电极表面填充第一保护层,并且使得第一保护层平坦化,最后再沉积第二保护层以对第一保护层起保护作用,在确保硅基液晶器件表面的平整度和反光率的基础上,省略了第一保护层的刻蚀去除和二次沉积,优化和减少了工艺流程,降低了制作成本,并节约了制作时间。

主权项:1.一种硅基液晶器件的制备方法,其特征在于,包括:提供底板;于所述底板表面形成多个像素电极,相邻的两个所述像素电极之间具有间隙;于所述间隙和各所述像素电极的表面形成平坦化的第一保护层,所述第一保护层填满所述间隙;于所述第一保护层表面形成第二保护层。

全文数据:

权利要求:

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