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阻气膜及其制造方法 

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申请/专利权人:琳得科株式会社

摘要:本发明涉及一种阻气膜的制造方法,其至少依次具有工序1~工序3各工序如说明书中的定义所述;一种阻气膜,其具有基材、并在上述基材的至少一个表面侧具有来自聚硅氮烷类化合物的层,上述来自聚硅氮烷类化合物的层满足特定的要件;以及一种阻气膜,其具有基材、并在上述基材的至少一个表面侧具有阻气层层叠体,上述阻气层层叠体是阻气层XG和阻气层YG直接层叠而成的,上述阻气层XG与上述基材不相邻,上述阻气层YG位于比层XG更靠近基材一侧、且与层XG相邻,上述阻气层层叠体满足特定的要件。

主权项:1.一种阻气膜的制造方法,其至少依次具有下述工序1~3,工序1:形成未改性的聚硅氮烷类化合物层Y的工序;工序2:在所述层Y的露出面上形成未改性的聚硅氮烷类化合物层X,将所述层Y与所述层X直接层叠的工序;工序3:从所述层X的与所述层Y相反一侧的面进行改性处理,对所述层X及所述层Y的至少一部分同时进行改性处理,由此形成将阻气层XG及阻气层YG直接层叠而成的阻气层层叠体的工序。

全文数据:

权利要求:

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