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一种雪崩光电探测器及其制备方法 

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申请/专利权人:北京工业大学

摘要:本发明提供一种雪崩光电探测器,包括硅衬底,埋层氧化硅形成于硅衬底上,硅台面区形成于埋层氧化硅上,硅接触区形成于硅台面区两侧的埋层氧化硅上,锗外延层形成于硅台面区上,第一电极与锗外延层欧姆接触,第二电极与硅接触区欧姆接触。该雪崩光电探测器中,锗外延层的面积小于硅台面区,且在锗外延层和硅台面区的同侧均刻蚀出直角结构,在锗外延层和硅台面区直角结构的相对一侧为光传入侧。该雪崩光电探测器具有吸收效率高、尺寸小、易于集成、损耗均匀性较好、加温控后热稳定性好、可与有源器件集成、强抗辐射能力和易于封装的优势。本发明还提供了该雪崩光电探测器的制备方法,该方法具有操作简单和重复性好的优点。

主权项:1.一种雪崩光电探测器,包括硅衬底,其特征在于,埋层氧化硅形成于所述硅衬底上,所述埋层氧化硅上设置硅台面区,硅接触区形成于所述硅台面区两侧的埋层氧化硅上,所述硅台面区上设置锗外延层,分别在所述硅接触区和锗外延层进行离子注入,设置第一电极与所述锗外延层欧姆接触,设置第二电极与所述硅接触区欧姆接触,其中,所述锗外延层的面积小于所述硅台面区,且在所述锗外延层和所述硅台面区的同侧均刻蚀出直角结构,在所述锗外延层和所述硅台面区直角结构的相对一侧为光传入侧。

全文数据:

权利要求:

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