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申请/专利权人:宁波江丰电子材料股份有限公司
摘要:本发明提供一种硅靶材的表面加工方法,所述表面加工方法包括如下步骤:对待处理硅靶材依次进行粗磨、精磨和化学机械抛光,得到粗糙度<0.01μm的镜面硅靶材;所述化学机械抛光采用的抛光液包括粒径为80~150nm的二氧化硅悬浮液。本发明所述的表面加工方法操作简单,加工效率高,待处理硅靶材依次进行特定工艺参数的粗磨、精磨和化学机械抛光,得到了表面无明显机械加工纹路的镜面硅靶材,适合大范围推广应用。
主权项:1.一种硅靶材的表面加工方法,其特征在于,所述表面加工方法包括如下步骤:对待处理硅靶材依次进行粗磨、精磨和化学机械抛光,得到粗糙度<0.01μm的镜面硅靶材;所述化学机械抛光采用的抛光液包括粒径为80~150nm的二氧化硅悬浮液。
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