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申请/专利权人:厦门理工学院
摘要:本发明属于半导体外延生长技术领域。本发明提供了一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法。本发明氧化镓薄膜的异质外延生长方法,包含如下步骤:将镓源水平置于反应温区,预处理后的衬底垂直置于沉积温区,通入氧源进行薄膜生长,然后对衬底上得到的氧化镓薄膜进行异位退火。本发明通过对衬底进行预处理,在氧化镓薄膜生长过程中形成台阶流生长模式,显著提高了氧化镓薄膜的结晶质量,有效避免薄膜中层错等结构缺陷的形成;通过分立温区,独立控制镓源和衬底的温度变化,实现了薄膜晶体质量和生长速率的高度统一,得到了生长速率高、生长均匀、平面光滑、高质量氧化镓薄膜。本发明的原料易得,价格低廉,设备简单,重复性和可靠性高。
主权项:1.一种氧化镓薄膜的异质外延生长方法,其特征在于,包含如下步骤:将镓源水平置于反应温区,预处理后的衬底垂直置于沉积温区,通入氧源进行薄膜生长,然后对衬底上得到的氧化镓薄膜进行异位退火。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 厦门理工学院 一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法
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