首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:厦门理工学院

摘要:本发明属于半导体外延生长技术领域。本发明提供了一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法。本发明氧化镓薄膜的异质外延生长方法,包含如下步骤:将镓源水平置于反应温区,预处理后的衬底垂直置于沉积温区,通入氧源进行薄膜生长,然后对衬底上得到的氧化镓薄膜进行异位退火。本发明通过对衬底进行预处理,在氧化镓薄膜生长过程中形成台阶流生长模式,显著提高了氧化镓薄膜的结晶质量,有效避免薄膜中层错等结构缺陷的形成;通过分立温区,独立控制镓源和衬底的温度变化,实现了薄膜晶体质量和生长速率的高度统一,得到了生长速率高、生长均匀、平面光滑、高质量氧化镓薄膜。本发明的原料易得,价格低廉,设备简单,重复性和可靠性高。

主权项:1.一种氧化镓薄膜的异质外延生长方法,其特征在于,包含如下步骤:将镓源水平置于反应温区,预处理后的衬底垂直置于沉积温区,通入氧源进行薄膜生长,然后对衬底上得到的氧化镓薄膜进行异位退火。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 厦门理工学院 一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。