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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种图形修正方法、存储介质和终端，方法包括：提供第一待修正版版图；成对应各第一待修正图形的若干辅助图形；对第一待修正版图进行第一光学邻近效应修正获取第二待修正版图，第二待修正版图包括若干第二待修正图形；对第二待修正版图进行第一模拟曝光，获取若干个第一模拟曝光版图，若干个第一模拟曝光图形的轮廓构成曝光带；根据曝光带在各个位置的宽度，获取第二待修正图形的弱点区域；获取弱点区域周围的目标辅助图形，并对目标辅助图形进行修正，直至弱点区域对应的曝光带的宽度满足预设范围，获取对应目标辅助图形的修正辅助图形；基于修正辅助图形和辅助图形，对第二待修正版图进行修正，获取修正版图。所述修正方法的精准度提升。
主权项：1.一种图形修正方法，其特征在于，包括：提供第一待修正版版图，所述第一待修正版图包括若干第一待修正图形；生成对应各所述第一待修正图形的若干辅助图形；对所述第一待修正版图进行第一光学邻近效应修正，获取第二待修正版图，所述第二待修正版图包括若干与第一待修正图形对应的第二待修正图形；对所述第二待修正版图进行第一模拟曝光，获取若干个第一模拟曝光版图，每一个第二待修正图形对应若干个第一模拟曝光图形，若干个第一模拟曝光图形的轮廓构成曝光带；根据所述曝光带在各个位置的宽度，获取第二待修正图形的弱点区域，所述弱点区域对应的曝光带的宽度未满足预设范围；获取所述弱点区域周围的目标辅助图形，并对所述目标辅助图形进行修正，直至所述弱点区域对应的曝光带的宽度满足预设范围，获取对应所述目标辅助图形的修正辅助图形；基于所述修正辅助图形和辅助图形，对所述第二待修正版图进行第二光学邻近效应修正，获取修正版图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 图形修正方法、存储介质和终端
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