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申请/专利权人:厦门半导体工业技术研发有限公司
摘要:本公开提供了一种存储器装置的操作方法、存储器装置、设备及存储介质,其中,所述存储器装置的操作方法,包括:提供半导体器件,所述半导体器件包括:衬底,位于所述衬底内的深N阱区,和位于所述深N阱区内的P阱区,以及位于所述P阱区中的多个晶体管结构,所述晶体管结构包括栅极,以为分别位于所述栅极两侧的源极和漏极;对所述栅极的端口施加第一电压,对所述深N阱区的端口施加第二电压,以及对所述P阱区的端口施加第三电压;其中,当执行第一操作时,所述第一电压等于0,所述第二电压为正电压,所述第三电压为负电压;当执行第二操作时,所述第一电压为正电压,所述第二电压为正电压,所述第三电压为正电压。
主权项:1.一种存储器装置的操作方法,其特征在于,包括:提供半导体器件,所述半导体器件包括:衬底,位于所述衬底内的深N阱区,和位于所述深N阱区内的P阱区,以及位于所述P阱区中的多个晶体管结构,所述晶体管结构包括栅极,以为分别位于所述栅极两侧的源极和漏极;对所述栅极的端口施加第一电压,对所述深N阱区的端口施加第二电压,以及对所述P阱区的端口施加第三电压;其中,当执行第一操作时,所述第一电压等于0,所述第二电压为正电压,所述第三电压为负电压;当执行第二操作时,所述第一电压为正电压,所述第二电压为正电压,所述第三电压为正电压,其中,所述第二操作为初始化操作;通过下列公式1对所述第一操作进行说明: 其中,在公式1中,Vth为阈值电压,Vth0为零偏置条件下的阈值电压,γ为摆幅系数,为表面势垒高度,VSB为源漏极与衬底之间的反向电压,即,VSB=Vs-VB,其中,第三电压等于衬底电压VB,当衬底电压VB为负压,即VB下降时,会使VSB增大,从而增大了阈值电压Vth;通过下列公式2对所述第二操作进行说明: 其中,公式2中的Id为漏极电流,为晶体管的宽长比,μn为电子迁移率,Cox为氧化层电容,VGS为栅源电压,Vth为阈值电压,VDS为漏源电压;结合公式1,当衬底电压VB为正压时,阈值电压Vth减小,在公式2中,当阈值电压Vth减小时,漏极电流Id增大。
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百度查询: 厦门半导体工业技术研发有限公司 存储器装置的操作方法、存储器装置、设备及存储介质
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