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全反射光学系统畸变控制的方法 

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申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

摘要:本发明属于高光谱成像技术领域,尤其涉及一种全反射光学系统畸变控制的方法。包括:S1:构建同轴反射式光学系统,并确定同轴反射式光学系统的主光线误差与同轴反射式光学系统的波前畸变系数之间的函数关系;S2:计算同轴反射式光学系统的主光线误差,并根据步骤S1建立的函数关系和主光线误差计算同轴反射式光学系统的畸变值;S3:构建同轴反射式光学系统的Seidel像差系数与同轴反射式光学系统的系统参数之间的多维度非线性方程组;S4:基于步骤S3建立的多维度非线性方程组构建误差函数,并利用差分进化算法和畸变值对误差函数进行求解,获得带有特定畸变值的初始全反射光学系统。本发明能够解决光谱仪的曲线弯曲校正困难的问题。

主权项:1.一种全反射光学系统畸变控制的方法,其特征在于:具体包括如下步骤:S1:构建同轴反射式光学系统,并确定同轴反射式光学系统的主光线误差与同轴反射式光学系统的波前畸变系数之间的函数关系;S2:计算同轴反射式光学系统的主光线误差,并根据步骤S1建立的函数关系和所述主光线误差计算同轴反射式光学系统的畸变值;S3:构建同轴反射式光学系统的Seidel像差系数与同轴反射式光学系统的系统参数之间的多维度非线性方程组;S4:基于步骤S3建立的多维度非线性方程组构建误差函数,并利用差分进化算法和所述畸变值对所述误差函数进行求解,获得带有特定畸变值的初始全反射光学系统。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 全反射光学系统畸变控制的方法

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