申请/专利权人:四川富乐华半导体科技有限公司
申请日:2024-03-27
公开(公告)日:2024-04-30
公开(公告)号:CN117954330A
主分类号:H01L21/48
分类号:H01L21/48;B08B3/08
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要:本申请涉及DCB氧化铝陶瓷基板制备技术领域,本发明公开了一种消除DCB氧化铝陶瓷基板岛间漏电流的方法,其特征在于,包括烧结半成品、前处理清洗、图形转移、蚀刻,还包括以下步骤:步骤一:在蚀刻工艺完成后将DCB氧化铝陶瓷基板浸泡在氢氟酸溶液中;步骤二:将步骤一中浸泡后的DCB氧化铝陶瓷基板进行三次清洗;步骤三:将步骤二清洗后的DCB氧化铝陶瓷基板进行烘干。本发明通过在蚀刻后使用氢氟酸溶液浸泡以及三种不同清洁方式,有效消除产品烧结后的中间产物CuAlO2,破坏O‑Cu‑O结构,从而降低产品岛间漏电流,提高绝缘性能;氢氟酸清洁效率高,实现降本增效,节约成本。
主权项:1.一种消除DCB氧化铝陶瓷基板岛间漏电流的方法,其特征在于,包括烧结半成品、前处理清洗、图形转移、蚀刻,还包括以下步骤:步骤一:在蚀刻工艺完成后将DCB氧化铝陶瓷基板浸泡在氢氟酸溶液中;步骤二:将步骤一中浸泡后的DCB氧化铝陶瓷基板进行三次清洗;步骤三:将步骤二清洗后的DCB氧化铝陶瓷基板进行烘干。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 四川富乐华半导体科技有限公司 一种消除DCB氧化铝陶瓷基板岛间漏电流的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。