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用于基板处理系统的ETHERCAT液体流量控制器通信 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2021-06-24

公开(公告)日:2024-06-04

公开(公告)号:CN115135447B

主分类号:B24B37/30

分类号:B24B37/30;B24B57/02;B24B53/017;B24B37/015

优先权:["20200625 US 63/044,309"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.04#授权;2022.10.25#实质审查的生效;2022.09.30#公开

摘要:在诸如化学机械系统之类的基板处理系统中,获得用于所述基板处理系统的多个液体流量控制器的更新后控制器配置数据。耦合至以太网络控制自动化技术EtherCAT总线的多个液体流量控制器LFC通过EtherCAT总线来自动地下载所述更新后控制器配置数据的副本。所述多个液体流量控制器中的各者控制来自所述基板处理系统中多个流体线的单独流体线的流体流量,通过所述多个流体线的流体流量是使用具有所述更新后控制器配置数据的所述多个液体流量控制器所控制的。

主权项:1.一种化学机械抛光设备,包括:多个抛光站,其中每个抛光站包括平台和抛光液体分配器,所述平台用以支撑抛光垫,所述抛光液体分配器用以将来自抛光液体供应的抛光液体通过端口输送至所述抛光垫上;多个承载头,所述多个承载头能在所述抛光站之间移动以抵靠所选抛光垫保持基板;以太网络控制自动化技术总线;液体流量控制器阵列,所述液体流量控制器阵列包括耦合至以太网络控制自动化技术总线的多个能独立控制的液体流量控制器,所述多个液体流量控制器包括第一多个液体流量控制器,所述第一多个液体流量控制器中的每个相应液体流量控制器控制来自所述抛光液体供应至相应端口的抛光液体的流量;控制系统,所述控制系统经配置以:获得针对所述多个液体流量控制器中的每一者的更新后控制器配置数据,其中针对所述多个液体流量控制器中的至少一者的所述更新后控制器配置数据不同于所述多个液体流量控制器中的另一者的所述更新后控制器配置数据,并且自动地通过所述以太网络控制自动化技术总线向所述多个液体流量控制器中的每一者依序传送命令,以致使所述液体流量控制器中的每一者依序通过所述以太网络控制自动化技术总线下载所述更新后控制器配置数据的副本。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 用于基板处理系统的ETHERCAT液体流量控制器通信

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