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【发明公布】垂直连续显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置_国际电路企业株式会社_202311034171.1 

申请/专利权人:国际电路企业株式会社

申请日:2023-08-16

公开(公告)日:2024-06-11

公开(公告)号:CN118169980A

主分类号:G03F7/30

分类号:G03F7/30;G03F7/40

优先权:["20221208 KR 10-2022-0170560"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.11#公开

摘要:本发明涉及一种非接触式与浸渍式的垂直连续蚀刻装置、非接触式与浸渍式的垂直连续显影装置以及一种非接触式与浸渍式的垂直连续显影蚀刻装置。所述非接触式与浸渍式的垂直连续蚀刻装置包括:多个夹具、装载部、第一蚀刻部、第一后处理部、第二蚀刻部、第二后处理部、干燥部、卸载部以及移送部。其不仅能够防止基板显影工序与蚀刻工序中发生的水坑现象,又能够以非接触式进行显影工序与蚀刻工序从而能够防止基板上形成的干膜破损及从而引发的电路不良。

主权项:1.一种非接触式与浸渍式的垂直连续蚀刻装置,其特征在于,包括:多个夹具100,其用于夹持并固定基板10;装载部200,其用于将基板10供给上述各夹具100;第一蚀刻部300,其设在上述装载部200的后方,并包括在内部装有蚀刻液的第一蚀刻槽310,将完成显影工序的基板10进行第一次蚀刻工序;第一后处理部400,其设在上述第一蚀刻部300的后方,并包括在内部装有后处理液的处理槽,将完成上述第一蚀刻工序的基板10进行第一次后处理工序;第二蚀刻部500,其设在上述第一后处理部400的后方,并包括在内部装有湿式蚀刻液的第二蚀刻槽,将完成上述第一次后处理工序的基板10进行第二次蚀刻工序;第二后处理部600,其设在上述第二蚀刻部500的后方,并将完成上述第二次蚀刻工序的基板10进行第二次后处理工序;干燥部700,其设在上述第二后处理部600的后方,并将完成上述第二次后处理工序的基板10进行干燥工序;卸载部800,其设在上述干燥部700的后方,并将完成上述干燥工序的基板10从上述夹具100上卸下;以及移送部900,其为使上述各夹具100经过上述各工序循环,移送各夹具100。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 国际电路企业株式会社 垂直连续显影装置、蚀刻装置、连续显影蚀刻装置

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