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一种类金刚石膜自生长关键工艺方法 

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申请/专利权人:苏州科国智新材料科技有限公司

摘要:本发明公开的属于类金刚石膜技术领域,具体为一种类金刚石膜自生长关键工艺方法,包括具体步骤如下:先选取衬底材料,后通过金刚石微粉打磨衬底材料表面清除油污,后再对衬底材料进行清洗烘干,将催化剂、防腐剂、阻燃剂和金刚石微粉置于反应釜中进行混合,以得到涂覆料,将涂覆料涂在衬底材料表面上,将涂有涂覆料的衬底材料放置在真空反应区内,接着抽取空气,在真空度达到5.0×103Pa以下时,将热丝温度升高到2000℃以上,本发明通过在热丝CVD工艺基础上,同时施加含有一定直流偏压成分的射频电场,具有能够解决现有的制备方法存在成核困难、生长速率低、原材料浪费大的问题,此外,所制备的类金刚石膜具有良好的晶体结构。

主权项:1.一种类金刚石膜自生长关键工艺方法,其特征在于,包括具体步骤如下:步骤一:先选取衬底材料,后通过金刚石微粉打磨衬底材料表面清除油污,后再对衬底材料进行清洗烘干;步骤二:将催化剂、防腐剂、阻燃剂和金刚石微粉置于反应釜中进行混合,以得到涂覆料;步骤三:将涂覆料涂在衬底材料表面上;步骤四:将涂有涂覆料的衬底材料放置在真空反应区内,接着抽取空气,在真空度达到5.0×103Pa以下时,将热丝温度升高到2000℃以上,之后,通入反应气体CH4和H2,其CH4和H2的混合比为10%~20%,接着施加200V的直流负偏压和150W的射频电压,持续40min~120min;步骤五:调整参数,将热丝与衬底材料之间的距离调整为6mm~12mm,将热丝温度调整为2000℃~2200℃,将CH4和H2的混合比调整为1%~4%,将射频功率调整为50W~200W,接着持续60min~80min,即可制备出沿衬底材料晶向择优生长的类金刚石膜。

全文数据:

权利要求:

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