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一种MEMS传感器及其制作方法 

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申请/专利权人:美新半导体(绍兴)有限公司;美新半导体(天津)有限公司

摘要:本发明提供一种MEMS传感器及其制作方法,MEMS传感器包括:衬底层;MEMS层,其位于所述衬底层的一侧表面,所述MEMS层中形成有MEMS传感器结构;盖帽层,其位于所述MEMS层远离所述衬底层的一侧表面;底部阻挡块,其位于所述MEMS层邻近所述衬底层的一侧表面,所述底部阻挡块与所述衬底层相互间隔,以对所述MEMS传感器结构中的可活动部件的运动进行限位。与现有技术相比,本发明在MEMS层上设置阻挡块,以替代氧化物阻挡块,从而在限制MEMS层中的可活动部件位移的同时避免产生静电力。

主权项:1.一种MEMS传感器,其特征在于,其包括:衬底层;MEMS层,其位于所述衬底层的一侧表面,所述MEMS层中形成有MEMS传感器结构;盖帽层,其位于所述MEMS层远离所述衬底层的一侧表面;底部阻挡块,其位于所述MEMS层邻近所述衬底层的一侧表面,所述底部阻挡块与所述衬底层相互间隔,以对所述MEMS传感器结构中的可活动部件的运动进行限位。

全文数据:

权利要求:

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