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【发明授权】一种微机电系统及其制备方法_华为技术有限公司_201911408207.1 

申请/专利权人:华为技术有限公司

申请日:2019-12-31

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN113120850B

主分类号:B81B5/00

分类号:B81B5/00;B81B7/00;B81B7/02;B81C1/00;B81C3/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2021.08.03#实质审查的生效;2021.07.16#公开

摘要:本发明提供了一种微机电系统MEMS装置,包括:第一固定梳齿,第二固定梳齿,支撑梁,活动平台和活动梳齿;其中:所述第一固定梳齿和第二固定梳齿固定在基板上,所述第一固定梳齿和第二固定梳齿之间电学隔离;所述支撑梁的两端固定在基板上,所述活动平台连接在支撑梁上;所述活动梳齿连接在所述活动平台上,并与所述第一固定梳齿和第二固定梳齿形成三层梳齿结构。这样的结构提高了MEMS装置的驱动效率。

主权项:1.一种微机电系统MEMS装置,其特征在于,包括:第一固定梳齿,第二固定梳齿,支撑梁,活动平台和活动梳齿;其中:所述第一固定梳齿和第二固定梳齿固定在基板上,所述第一固定梳齿和第二固定梳齿之间电学隔离;所述支撑梁的两端固定在基板上,所述活动平台连接在支撑梁上;所述活动梳齿连接在所述活动平台上,且位于所述第一固定梳齿和所述第二固定梳齿之间,并与所述第一固定梳齿和第二固定梳齿形成三层梳齿结构;所述MEMS装置还包括:第一固定梳齿电极和第二固定梳齿电极;所述第一固定梳齿电极和所述第二固定梳齿电极位于所述第一固定梳齿、所述第二固定梳齿和所述活动梳齿的同一侧;所述第一固定梳齿电极包括第一子电极和第二子电极,所述第一子电极和所述第二子电极沿所述活动平台的厚度方向排列,且两者相接触;所述第一子电极与所述第一固定梳齿相接触,且两者呈一体结构;所述第二子电极与所述活动梳齿、所述活动平台、所述支撑梁同层设置;所述第二固定梳齿电极与所述第二固定梳齿相接触,且两者呈一体结构;所述第二固定梳齿电极位于所述第二子电极远离所述第一子电极的一侧;所述第一固定梳齿和第二固定梳齿之间电学隔离由所述第二固定梳齿电极和所述第二子电极之间的电学隔离形成。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华为技术有限公司 一种微机电系统及其制备方法

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