申请/专利权人：北京工业大学;中国航天员科研训练中心

申请日：2024-01-31

公开（公告）日：2024-06-21

公开（公告）号：CN118219579A

主分类号：B29C69/00

分类号：B29C69/00;B29C64/124;B29C64/379;B33Y10/00;B33Y40/20;B29C67/04;B33Y70/00;B29C71/00

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.21#公开

摘要：一种聚四氟乙烯高性能点阵结构的方法，属于3D打印领域。所用材料为聚四氟乙烯或改性后的聚四氟乙烯。点阵结构具有周期性，由Creo软件设计。聚四氟乙烯浆料包括聚四氟乙烯分散液固含量60％，质量分数80％、N,N'‑亚甲基双丙烯酰胺交联剂，质量分数8％、4‑丙烯酰吗啉光敏树脂单体，质量分数8％、樟脑醌光引发剂，质量分数1％、异丙基噻吨酮光引发剂，质量分数1％、甘油分散剂，质量分数2％。打印层厚为30～100μm，曝光时间为5‑15s，烧结处理后，拉伸强度为15～19MPa，断裂伸长率为250％～300％。再结晶处理后的样品抗拉强度为21～27MPa，断裂伸长率为150％～200％。

主权项：1.一种聚四氟乙烯高性能点阵结构的3D打印制备方法，包括以下步骤：1结构设计：使用Creo软件设计点阵结构；单胞为立方体，边长在3～10mm范围内选择，杆径或壁厚在0.2～1.5mm范围内选择，点阵结构的孔隙率控制在35％～70％范围内；2浆料制备：将质量分数为80％的聚四氟乙烯分散液，聚四氟乙烯分散液固含量为60％，质量分数为8％的N,N'-亚甲基双丙烯酰胺作为交联剂，质量分数为8％的4-丙烯酰吗啉作为光敏树脂单体，质量分数为1％的樟脑醌作为光引发剂，质量分数为1％的异丙基噻吨酮作为光引发剂，质量分数为2％的甘油作为分散剂混合；使用均质机进行均质，均质环境为真空环境，均质时间为180s，转速2800rmin；33D打印：以上述的浆料为原料，使用光固化技术制备设计好的点阵结构；打印机的打印层厚在30～100μm的范围内设置，曝光时间在5～15s的范围内设置；4热处理：将打印好的坯体放入干燥箱烘干；然后放入马弗炉进行热处理；步骤4所述热处理，具体步骤：1脱脂阶段：将坯体放入马弗炉；从20℃加热至380℃，设置时间为360min；在380℃保温300min；2烧结阶段：从380℃加热至450℃，设置时间为140min；在450℃保温150min，结束烧结阶段，获得致密的聚四氟乙烯样品；3再结晶阶段：从450℃降温至260℃，设置降温时间为240min；在260℃保温30min后，随炉冷却。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京工业大学;中国航天员科研训练中心 一种聚四氟乙烯高性能点阵结构的3D打印制备方法

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