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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
申请日：2023-12-20
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118226699A
主分类号：G03F1/24
分类号：G03F1/24
优先权：["20221221 JP 2022-204297"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：一种反射掩模坯料，其是在EUV光作为曝光用光的EUV光刻中使用的反射掩模的材料，所述反射掩模坯料包括：基板；形成在所述基板的一个主表面上、具有周期性层压结构、并且反射曝光用光的反射多层膜，在所述周期性层压结构中，对于曝光用光具有相对低折射率的层和对于曝光用光具有相对高折射率的层被交替层压；与所述反射多层膜接触形成的保护膜；以及与所述保护膜接触形成并吸收曝光用光的吸收膜，其膜应力不大于在将所述吸收膜直接形成在所述基板上的情况下的膜应力。
主权项：1.一种反射掩模坯料，其是在EUV光作为曝光用光的EUV光刻中使用的反射掩模的材料，所述反射掩模坯料包含：基板，形成在所述基板的一个主表面上、具有周期性层压结构、并且反射曝光用光的反射多层膜，所述周期性层压结构中，对于曝光用光具有相对低折射率的层和对于曝光用光具有相对高折射率的层被交替层压，与所述反射多层膜接触形成的保护膜，以及与所述保护膜接触形成并吸收曝光用光的吸收膜；其中，所述吸收膜的膜应力不大于在将所述吸收膜直接形成在所述基板上的情况下的膜应力。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 反射掩模坯料
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