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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
申请日：2023-12-20
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118226700A
主分类号：G03F1/24
分类号：G03F1/24
优先权：["20221221 JP 2022-204305"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：一种反射掩模坯料，其包含基板、形成在所述基板的一个主表面上并且反射曝光用光的多层反射膜、以及形成在所述多层反射膜上且包含钌Ru和铌Nb的保护膜，所述保护膜包括在厚度方向上与靠近所述多层反射膜的一侧和最远离所述多层反射膜的一侧两者的钌Ru含量相比钌Ru含量低的部分。
主权项：1.一种反射掩模坯料，其包含基板、形成在所述基板的一个主表面上并反射曝光用光的多层反射膜、以及形成在所述多层反射膜上的保护膜，其中：所述保护膜包含钌Ru和铌Nb，所述保护膜包含在厚度方向上钌Ru含量低于靠近所述多层反射膜的一侧和最远离所述多层反射膜的一侧两者的钌Ru含量的部分。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 反射掩模坯料、反射掩模、及其制造方法
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