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申请/专利权人：南京师范大学
申请日：2024-03-25
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118225689A
主分类号：G01N21/01
分类号：G01N21/01;G01N21/49
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明公开了一种利用表面电场调控衬底对低折射率样品的无标记成像装置及方法，属于光学成像技术领域，其中方法包括以下步骤：将亚波长尺寸的低折射率样品置于沉积有多层光学薄膜的载玻片衬底上，并将所述载玻片衬底置于光学显微镜的载物台上，光学显微镜的照明光通过窄带滤光片转换成准单色光，并以倾斜照明的方式照射到载玻片衬底和低折射率样品上；低折射率样品在入射光照明下，其散射信号在空间中呈立体角分布，载玻片衬底的高反射率与分布在表面的电场进一步增强了低折射率样品的散射光，通过光学显微镜的物镜收集所述的散射光对单个低折射率样品进行无标记成像。本发明可以探测到直径为50纳米的单个聚苯乙烯颗粒和厚度约100纳米的嗜热链球菌微荚膜结构，实现了暗场显微镜高灵敏度和高信噪比的无标记成像。
主权项：1.利用表面电场调控衬底对低折射率样品的无标记成像装置，其特征在于，包括光学显微镜，所述光学显微镜的载物台上自下而上依次设有载玻片衬底、多层光学薄膜和低折射率样品，所述低折射率样品放置在载玻片衬底上，并置于光学显微镜的物镜下方，所述多层光学薄膜自下而上依次由金属薄膜以及高低折射率依次交替沉积的介质薄膜组成，金属薄膜用于对入射光进行高反射，高低折射率依次交替沉积的介质薄膜用于调控电场最强处分布在上表面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京师范大学 利用表面电场调控衬底对低折射率样品的无标记成像装置及方法
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