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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日：2020-05-06
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN111599716B
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67;C23C16/54;C23C16/455
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权;2020.09.22#实质审查的生效;2020.08.28#公开
摘要：本发明公开一种用于外延生长设备的预热环以及外延生长设备，该预热环包括上环部和下环部，上环部与下环部同轴自上而下叠置，上环部的外径与下环部的外径相等，上环部的内径小于下环部的内径，上环部的一侧设有排气通道，从而使净化气体和处理气体快速排走，上环部的内径小于下环部的内径，使上环部对下环部的内周面形成遮蔽，避免净化气体通过基板支撑件和下环部之间的间隙向上流动，防止在基板边缘附近形成紊流及额外流阻，改善基板边缘沉积效率，提高基板成膜均匀性。
主权项：1.一种外延生长设备，其特征在于，所述外延生长设备包括反应腔室、基板支撑件和预热环，所述基板支撑件和所述预热环均设置在所述反应腔室内，所述预热环环绕于所述基板支撑件的外周，所述反应腔室一侧设有气体排放区、另一侧设有处理气体进气区；所述预热环包括上环部2和下环部1，所述上环部2与所述下环部1同轴自上而下叠置，所述下环部1与所述基板支撑件之间留有间隙，所述上环部2的外径与所述下环部1的外径相等，所述上环部2的内径小于所述下环部1的内径，所述上环部2靠近所述气体排放区的一侧设有排气通道，以使所述上环部2对所述间隙处除了所述排气通道处的其他位置处进行遮蔽，以使所述预热环下方的净化气体通过所述排气通道进入所述气体排放区。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 用于外延生长设备的预热环以及外延生长设备
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