申请/专利权人：马克斯·普朗克科学促进学会

申请日：2019-10-28

公开（公告）日：2024-06-25

公开（公告）号：CN118241167A

主分类号：C23C14/28

分类号：C23C14/28;C30B23/02;C30B23/06;C30B30/00;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/08;C30B29/32

优先权：["20181031 DE 102018127262.6"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.25#公开

摘要：本发明涉及一种用由层材料58制成的至少一个材料层56涂覆由基板材料54制成的基板52的涂覆设备1。本发明还涉及一种用于涂覆设备1的处理腔室10，所述涂覆设备1用由层材料58制成的至少一个材料层56涂覆由基板材料54制成的基板52。本发明还涉及一种在涂覆设备1中用由层材料58制成的至少一个材料层56涂覆由基板材料54制成的基板52的方法。本发明的另一方面涉及一种用至少一个材料层56涂覆的基板52，包括用由层材料58制成的至少一个材料层56涂覆的由基板材料54制成的所述基板52。

主权项：1.一种用由层材料58制成的至少一个材料层56涂覆由基板材料54制成的基板52的涂覆设备1，所述涂覆设备1包括：处理腔室10，所述处理腔室具有处理容积12用于容纳基板支架50，所述基板支架50用于将所述基板52布置在所述处理容积12中的固定位置中，其中所述处理腔室10具有用于至少基本上完全地包围所述处理容积12的腔室壁14；气体系统30，所述气体系统以流体连通的方式连接到所述处理容积12，以用于在所述处理容积12中产生涂覆气氛40；以及源支架60，所述源支架布置在所述处理容积12中并且具有至少一种源材料66，其中所述源支架60和所述基板支架50还相对于彼此布置成使得热蒸发和或升华的源材料66能够沉积在所述基板52上以用于至少部分地形成所述材料层56的所述层材料58，所述涂覆设备1还包括源加热激光器80，其中，所述源加热激光器80被配置为连续地或至少基本上连续地提供激光84，并且所述处理腔室10具有耦合设备18，所述耦合设备具有在所述腔室壁14中的至少一个耦合区段20，所述耦合区段用于将源加热激光器80的激光84传导到所述处理容积12中，其中所述激光84至少逐区段作为光束86存在于所述处理容积12中，并且通过所述激光84，所述源材料66能够被加热并且能够在低于所述源材料66的等离子体产生阈值的情况下被热蒸发和或升华，其特征在于，所述涂覆设备1被构造为以过量供应的方式提供至少一种所述热蒸发和或升华的源材料66作为要沉积的所述层材料58的挥发性组分，以建立所述层材料58在沉积的所述材料层56中生长的吸收受控的条件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 马克斯·普朗克科学促进学会 涂覆设备、处理腔室和涂覆基板的方法以及用至少一个材料层涂覆的基板

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