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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日：2022-10-25
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118251983A
主分类号：H10K59/126
分类号：H10K59/126
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本公开提供的显示基板、显示装置及母板，包括第一衬底基板，在第一衬底基板的同侧异层设置的多条第一信号线和多条第二信号线，各第一信号线沿第一方向延伸并沿与第一方向交叉的第二方向排列，各第二信号线沿第二方向延伸并沿第一方向排列；多个像素电极，位于第一信号线和第二信号线所在层之上，多个像素电极在第一衬底基板上的正投影位于由各第一信号线与各第二信号线交叉限定区域的正投影内；多个第一遮光结构，位于像素电极所在层之上，各第一遮光结构沿第二方向延伸且沿第一方向排列，第一遮光结构在第一衬底基板上的正投影位于在第二方向上延伸的各排像素电极之间的间隙正投影内且与第二信号线的正投影具有互不交叠的区域。
主权项：一种显示基板，其中，包括：第一衬底基板；多条第一信号线，位于所述第一衬底基板的一侧，所述多条第一信号线沿第一方向延伸并沿第二方向排列，所述第一方向和所述第二方向交叉；多条第二信号线，与所述多条第一信号线异层设置在所述第一衬底基板的同一侧，所述多条第二信号线沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向排列；多个像素电极，位于所述多条第一信号线所在层、以及所述多条第二信号线所在层背离所述第一衬底基板的一侧，所述多个像素电极在所述第一衬底基板上的正投影位于由所述多条第一信号线在所述第一衬底基板上的正投影与所述多条第二信号线在所述第一衬底基板上的正投影交叉限定的区域内；多个第一遮光结构，位于所述多个像素电极所在层背离所述第一衬底基板的一侧，所述多个第一遮光结构沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向排列，所述多个第一遮光结构在所述第一衬底基板上的正投影位于在所述第二方向上延伸的各排所述像素电极之间的间隙在所述第一衬底基板上的正投影内，所述多个第一遮光结构在所述第一衬底基板上的正投影与所述多条第二信号线在所述第一衬底基板上的正投影具有互不交叠的区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 显示基板、显示装置及母板
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