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申请/专利权人：福森仿生有限公司
申请日：2022-07-04
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118251633A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G02B27/10;G02B27/09
优先权：["20210703 DE 102021117204.7","20220331 LU LU102920"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明涉及对具有微米或者亚微米范围内的周期性点图案的基底进行图案化的领域，尤其是涉及通过激光干涉图案化对透明基底的表面和内部进行图案化的设备和方法。以这种方式产生的具有微米或者亚微米范围内的周期性点图案的图案化的区别在于明显的抗反射特性。本发明还涉及包括周期性点图案的具有抗反射特性的图案化基底。
主权项：1.一种激光干涉图案化设备，其用于直接激光干涉图案化，包括：-激光辐射源1，其用于发出激光束，-分束器元件2，其布置在所述激光束的光路3中，-聚焦元件4，其配置为使得子光束以所述子光束能够在干涉区域中在基底5的表面上或者体积中发生干涉的方式穿过所述聚焦元件，其特征在于所述分束器2沿着其光轴能够在所述光路3中自由移动，所述分束器2被设置为将由所述激光辐射源1发出的入射激光束分为至少两个子光束。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 福森仿生有限公司 用于带有抗反射特性的周期性点结构的基底的激光干涉结构化的设备和方法
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皖公网安备 34010402703815号