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申请/专利权人：朗姆研究公司
申请日：2017-12-14
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN110741462B
主分类号：H01L21/3065
分类号：H01L21/3065;H01L21/02;H01L21/311
优先权：["20161219 US 62/436,286","20170714 US 62/532,916","20171213 US 15/841,205"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2020.02.25#实质审查的生效;2020.01.31#公开
摘要：本文提供了用于评估各种材料的改性和去除操作的协同作用以确定通过原子层蚀刻进行自限蚀刻的工艺条件的方法。所述方法包括确定材料的表面结合能量，为材料选择改性气体，其中用于使材料表面改性的工艺条件产生的能量小于改性能量且大于解吸能量，选择去除气体，其中用于去除经改性的表面的工艺条件产生的能量大于解吸能量以去除经改性的表面但小于材料的表面结合能量以防止溅射，并计算协同作用以使用于原子层蚀刻的工艺窗最大化。
主权项：1.一种蚀刻在衬底上的材料的方法，该方法包括：识别使用改性气体和去除气体对材料进行的原子层蚀刻工艺的工艺条件；以及通过以下方式对所述衬底上的所述材料执行所述原子层蚀刻工艺：使所述衬底暴露于所述改性气体以使所述材料的表面改性，所述改性气体相对于待蚀刻的所述材料具有改性能量和解吸能量，以及使经改性的所述表面暴露于所述去除气体并点燃等离子体以去除经改性的所述表面，其中，所述改性能量小于所述解吸能量，所述解吸能量小于所述材料的表面结合能量，其中识别所述工艺条件包括选择用于执行使所述衬底暴露于所述改性气体的衬底温度，其中由所述衬底温度提供的离子能量介于所述改性能量和所述解吸能量之间；其中所述材料的表面结合能量大于6eV；其中所述材料选自碳、铌、钼、钌、铑、铼、锇、钨和钽。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 设计者原子层蚀刻和钽的原子层蚀刻
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