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一种图形化复合衬底及其外延结构 

申请/专利权人:淮安澳洋顺昌光电技术有限公司

申请日:2022-06-01

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN221239643U

主分类号:H01L33/22

分类号:H01L33/22

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权

摘要:本实用新型涉及半导体领域,公开了一种图形化复合衬底及其外延结构,包括表面具有微米级周期性排布的凸起结构(101)的衬底本体(1),相邻凸起结构之间具有隔离沟槽(103),在凸起结构的整个表面均分布有由二氧化硅材质的上部柱体微结构(1021)和与凸起结构一体结构且材质相同的下部柱体微结构(1022)组成的纳米级微结构(102)。本衬底中纳米级微结构相当于增加了凸起结构的密度,增大了其反射表面积,上部微结构设计为二氧化硅材质能够进一步提高衬底的反射率,提高LED器件的出光效率;增大了衬底C面图案化占比从而改善了侧向外延效果,有利于改善LED器件的内量子效率。

主权项:1.一种具有微纳结构的图形化衬底,其特征在于,包括表面具有微米级周期性排布的凸起结构(101)的衬底本体(1),相邻所述凸起结构(101)之间具有隔离沟槽(103),在所述凸起结构(101)的整个表面均分布有纳米级微结构(102);所述纳米级微结构(102)由上部柱体微结构(1021)和下部柱体微结构(1022)组成,所述上部柱体微结构(1021)的材质为二氧化硅,所述下部柱体微结构(1022)与所述凸起结构(101)为一体结构且材质相同。

全文数据:

权利要求:

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