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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种测试结构及其形成方法、工作方法，测试结构包括：衬底，所述衬底包括芯片区，所述芯片区包括有效区和非有效区，所述有效区包括第一区和环绕所述第一区的第二区；位于第二区上的保护环结构，所述保护环结构环绕所述第一区，所述保护环结构包括第一部分和第二部分，所述第二部分位于非有效区和第一区之间；位于第二区上的连接结构，所述连接结构与所述第一部分平行，所述保护环结构位于连接结构和第一区之间；位于非有效区上的测试板结构，所述测试板结构与相邻的连接结构电连接。所述测试结构测试简单准确，效率提升。
主权项：1.一种测试结构的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底包括芯片区，所述芯片区包括有效区和非有效区，所述有效区包括第一区和环绕所述第一区的第二区；在第二区形成保护环结构，所述保护环结构环绕所述第一区，所述保护环结构包括第一部分和第二部分，所述第二部分位于非有效区和第一区之间；在第二区形成连接结构，所述连接结构与所述第一部分平行，所述保护环结构位于连接结构和第一区之间；在非有效区上形成测试板结构，所述测试板结构与相邻的连接结构电连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 测试结构及其形成方法、工作方法
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