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一种冷阱清理装置及半导体处理设备的排气系统 

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申请/专利权人:上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

摘要:本发明公开了一种冷阱清理装置及半导体处理设备的排气系统,包括:隔离管,设于冷阱内的管壁内侧上,并对所述冷阱的管壁进行完全遮挡;环形贯通槽,设于所述冷阱的封闭端面上;驱动机构,设于所述冷阱外部,并与所述隔离管连接,用于驱动所述隔离管在所述贯通槽中移动;所述驱动机构驱动所述隔离管沿所述贯通槽向所述冷阱的端面以外移动时,所述贯通槽的内侧壁对所述隔离管的内壁产生刮擦作用,将进入所述冷阱并沉积在所述隔离管内壁上的副产物的膜层刮落。本发明无需对冷阱进行拆除,即可实现在线清理,提高了设备运行时间。

主权项:1.一种冷阱清理装置,其特征在于,包括:隔离管,设于冷阱内的管壁内侧上,并对所述冷阱的管壁进行完全遮挡;环形贯通槽,设于所述冷阱的封闭端面上;驱动机构,设于所述冷阱外部,并与所述隔离管连接,用于驱动所述隔离管在所述贯通槽中移动;所述驱动机构驱动所述隔离管沿所述贯通槽向所述冷阱的端面以外移动时,所述贯通槽的内侧壁对所述隔离管的内壁产生刮擦作用,将进入所述冷阱并沉积在所述隔离管内壁上的副产物的膜层刮落。

全文数据:

权利要求:

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