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掩膜结构、蚀刻方法以及玻璃结构 

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申请/专利权人:广东小天才科技有限公司

摘要:本发明公开了一种掩膜结构、蚀刻方法以及玻璃结构,所述掩膜结构包括第一部分和第二部分,所述第一部分形成有若干个收容孔;所述第二部分容置于所述收容孔内,所述第二部分与所述收容孔的孔壁间隔设置以形成蚀刻腔;其中,所述蚀刻腔环绕所述第二部分。运用本技术方案中的掩膜结构可以把握蚀刻方向,解决了现有技术中因蚀刻方向无法把握而导致玻璃微小孔的垂直度较低、纵宽比较小的技术问题。

主权项:1.一种掩膜结构,设置在玻璃上,其特征在于,包括:第一部分,所述第一部分形成有若干个收容孔;第二部分,所述第二部分容置于所述收容孔内,所述第二部分与所述收容孔的孔壁间隔设置以形成蚀刻腔;其中,所述蚀刻腔环绕所述第二部分。

全文数据:

权利要求:

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