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申请/专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法。该薄膜沉积设备包括：喷淋板，设置于反应腔内，并包括多个喷淋孔，其中，反应气体通过该多个喷淋孔抵达该反应腔内的晶圆表面，以在该晶圆表面形成薄膜；以及挡气环，可拆卸地设置于该喷淋板的部分喷淋孔处，用于遮挡该部分喷淋孔，以调节该喷淋板下方的气体流量分布。上述薄膜沉积设备能够兼容不同工艺的参数规范以及稳定性要求，从而基于同一喷淋板来快速切换不同的薄膜沉积工艺。
主权项：1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：喷淋板，设置于反应腔内，并包括适配第一气体流量的多个喷淋孔；以及适配第二气体流量的挡气环，其中，所述挡气环在进行所述第一气体流量的第一沉积工艺时被拆下，以经由所述多个喷淋孔向所述反应腔内的晶圆表面喷淋反应气体，并在所述喷淋板下方形成均匀的气体流量分布，以在所述晶圆表面形成第一薄膜，并在切换所述第二气体流量的第二沉积工艺时，被安装到所述喷淋板的部分喷淋孔处，以遮挡所述部分喷淋孔，并在所述喷淋板下方形成均匀的气体流量分布，以在所述晶圆表面形成第二薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法
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