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申请/专利权人：南京工业大学
摘要：本发明公开了一种W‑Si‑CHA分子筛膜及其制备方法和在气体分离中的应用，所述的W‑Si‑CHA分子筛膜的制备方案包括如下步骤：将负载有Si‑CHA晶种层的载体置于含有钨化合物的膜合成凝胶中，加热结晶，后经洗涤、干燥、焙烧，得所述W‑Si‑CHA分子筛膜。本发明通过在Si‑CHA分子筛膜的骨架架构中掺入W元素，能够减小Si‑CHA分子筛膜的孔口尺寸，继而提高了膜层对CO2CH4的分离选择性，同时W元素的掺入还消除了膜层表面的硅羟基，继而增加了膜的疏水性，使W‑Si‑CHA分子筛膜在水蒸气存在条件下，仍能够对上述混合气体具有较高的分离选择性与稳定性。
主权项：1.一种W-Si-CHA分子筛膜，其特征在于，包括载体以及负载于载体表面的选择分离性，所述的选择分离层是由W原子掺杂的全硅CHA分子筛所构成，并且四面体配位的钨原子以WVI的氧化态结合到了全硅CHA框架中，WVI通过两个W-O-Si键与沸石框架结合，同时与两个末端O形成双键。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京工业大学 一种W-Si-CHA分子筛膜及其制备方法和在气体分离中的应用
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