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申请/专利权人：浙江创芯集成电路有限公司
摘要：一种光学邻近修正方法及其修正装置、计算机可读存储介质，所述光学邻近修正方法包括：获取设计版图；对所述设计版图进行切角处理，获得待修正版图；对所述待修正版图进行修正以获得流片版图。通过对设计版图进行切角处理，使设计版图中拐角之间间距转变为最小线间距，以减少待修正版图中违反掩膜设计规则的图形，从而达到提升光学邻近修正方法收敛性的目的。
主权项：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：获取设计版图；对所述设计版图进行切角处理，获得待修正版图；对所述待修正版图进行修正以获得流片版图。
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权利要求：
百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 光学邻近修正方法和装置、计算机可读存储介质
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